1、与其它物理气相沉积技术也作了定*和定量的比较。
2、采用*频-直流等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅衬底上沉积了类金刚石薄膜
3、MOCVD是金属有机化学气相沉积技术的简称，即通过MOCVD设备，在衬底上生长材料晶体的一种方法。
4、由于氧化化学气相沉积技术是干燥的无溶剂过程，所以米纸在印刷后仍然完好无损。
5、采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术制备了不同衬底温度的微晶硅薄膜。
6、首次以电沉积铁为催化剂，采用经典化学气相沉积技术在石墨基体上成功实现纳米碳管的直接生长，大部分纳米碳管具有“Y”形结构。
7、利用电子回旋共振（ECR）微波等离子体辅助化学气相沉积技术、工作气氛为**，在光学玻璃衬底上得到了光滑、致密、均匀的类金刚石薄膜。
8、采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术成功地制备了不同硅*浓度和辉光功率条件下的微晶硅电池。
