1、硅的局域氧化工艺是一个非常成熟的工艺，在微米时代有着广泛的应用。

2、市场的开拓，技术的创新，成本的构成以及开发工具的使用，无一不受次微米时代的影响。

3、集成电路器件的特征尺寸进入深亚微米时代后，由于微细化和*能方面的影响，一些传统的器件结构将不再适用。

4、在深亚微米时代，随着设计规模变大，时钟频率越来越高以及工艺尺寸的减小，IC物理设计面临着诸多困难。